当液温达到21℃以上时,定影液中一般要加入坚膜剂,以防止乳剂层被破坏。坚膜剂有:钾钡[A12 (S04) 3K2S04:24H20]、铬矾[Cr2 (S04)3K2S04-24H20]和甲醛(HCHO) 。甲醛的坚膜作用强,铬矾次之,钾矾的作用较弱。采用时应根据液温情况选用,通常使用钾矾和铭矾。因甲醛有毒,只有特殊情况才采用它。显影的方法使潜影扩大为可见影像的方法有两种:一种是通常所用的化学显影。
当定影完毕后,总要用干净的水冲洗净胶片上余存的定影液。水洗的目的是要彻底影像膜层内所含的硫酸钠及其它可溶性盐。如果水洗不彻底则残存的硫酸钠日久分解出硫而使底片变黄。通常水洗时间在流水盆内不少于半小时。水洗完毕,可将底片悬挂在无尘处晾干或风干,严禁用烘烤的办法使其脱水,以免引起胶片变形。在一定范围内改变两者的相对含量,可以获得各种照相性能要求的显影液。
目前加工行业在致力打造喷涂曝光显影一条龙服务,这种表面装饰工艺可以克服贴合的一些不足,具备一定的优势,目前蓝思、伯恩的曝光显影加工工艺相对比较成熟。
3D玻璃显影曝光技术在HW mateRs用到了此技术,该后盖3D玻璃8曲面,弧面曲率大,普通的贴膜技术难以解决,应用范围主要是机型,曲率越大的玻璃加工制造难度加大,良率降低,成本报价相应要高
什么是曝光显影工艺?
不同的物质通过对不同波长紫外光的吸收,分子会发生能级跃迁,从基态跃迁至激发态,改变物质化学性能。曝光显影工艺就是指利用物质这一特点,由紫外平行光源通过掩膜版对涂有特定吸收波长的油墨进行紫外光照射,然后通过化学去除多余涂层,从而达到图形转印的过程称之为曝光显影工艺。在掩模版旋转过程中,掩模版中心一直处于新鲜显影液覆盖范围,因此掩模版中心位置的显影程度会高于周边位置,从而造成中心CD比周边大。
3D曲面玻璃利用曝光显影工艺正好可以解决遮蔽油墨不能通过传统印刷的问题,具有精度高,量产性好,良率高等特点。
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